光氧廢氣處理設(shè)備 低溫等離子體空氣凈化設(shè)備能夠顯著治理的污染有：VOC、惡臭氣體、異味氣體、油煙、粉塵，也可用于消毒殺菌。低溫等離子體技術(shù)是一種全新的凈化過(guò)程，不需要任何添加劑、不產(chǎn)生廢水、廢渣，不會(huì)導(dǎo)致二次污染。

催化燃燒性能特點(diǎn)

1、用優(yōu)質(zhì)金屬鉑、鈀鍍?cè)诜涓C陶瓷載體上作為催化劑、凈化效率高達(dá)97－99%，設(shè)備壽命長(zhǎng)、且可再生、氣體流暢阻力小；

2、安全設(shè)施完備：阻火除塵器、泄壓孔、超溫報(bào)警等保護(hù)設(shè)施全；

3、預(yù)熱15－30分鐘全功率加熱。工作時(shí)只消耗見(jiàn)機(jī)功率即可，當(dāng)廢氣濃度較低時(shí)，自動(dòng)間歇補(bǔ)償加熱；

4、余熱可以返回烘道用來(lái)烘干工作，降低原烘道中消耗功率；也可供工廠其它方面熱能回用

光氧廢氣處理設(shè)備 

光催化是常溫深度反應(yīng)技術(shù)。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機(jī)污染物*氧化成無(wú)毒無(wú)害的產(chǎn)物，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術(shù)則需要在*的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫。

從理論上講，只要半導(dǎo)體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導(dǎo)體就有可能用作光催化劑。常見(jiàn)的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對(duì)特定反應(yīng)有突出優(yōu)點(diǎn)，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導(dǎo)體帶隙能較小，跟太陽(yáng)光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。相對(duì)而言，Ti02的綜合性能較好，是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。

原理：將有臭味地氣體通過(guò)煙囪排至大氣，或用無(wú)臭空氣稀釋，降低惡臭物質(zhì)濃度以減少臭味。適用范圍：適用于處理中、低濃度的有組織排放的惡臭氣體。優(yōu)點(diǎn)：費(fèi)用低、設(shè)備簡(jiǎn)單。缺點(diǎn)：易受氣象條件限制，惡臭物質(zhì)依然存在。

利用臭氣中某些物質(zhì)易溶于水的特性，使臭氣成分直接與水接觸，從而溶解于水達(dá)到脫臭目的。適用范圍：水溶性、有組織排放源的惡臭氣體。優(yōu)點(diǎn)：工藝簡(jiǎn)單，管理方便，設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)費(fèi)用低 產(chǎn)生二次污染，需對(duì)洗滌液進(jìn)行處理。缺點(diǎn)：凈化效率低，應(yīng)與其他技術(shù)聯(lián)合使用，對(duì)硫醇，脂肪酸等處理效果差。