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Aston™ 質譜分析儀保護 CVD 工藝免受干泵故障的影響
閱讀：229 發布時間：2022-4-21
Atonarp 質譜分析儀 Aston™ 半導體 CVD / ALD 應用
上海伯東代理日本 Atonarp 過程控制質譜儀 Aston™ 專為半導體生產而設計, 作為一個強大的平臺, Aston™ 可以取代多種傳統工具, 提供半導體制程中 ALD, CVD, 蝕刻, ALE 和腔室在大批量生產中的氣體偵測分析, 實現尾氣在線監控, 診斷并在一系列應用中提供的控制水平, 適用于光刻, 電介質和導電蝕刻及沉積, 腔室清潔, 腔室匹配和消解.
Aston™ 質譜分析儀耐受腐蝕性氣體和氣化污染物冷凝液, 能夠在半導體生產遇到的惡劣工況下可靠運行, 與傳統質量分析儀相比, 使用 Aston™ 的維修間隔更長. 它包括自清潔功能, 可消除由于某些工藝中存在的冷凝物沉積而導致的污垢積累.
Aston™ 質譜分析儀典型應用: 保護 CVD 工藝免受干泵故障的影響
真空泵是半導體加工廠中應用廣泛的設備之一. 它們對各種化學氣相沉積工藝至關重要, 這些工藝在真空下運行, 以確保在較低的加工溫度下獲得均勻, 保形的沉積涂層. 干泵通常是惰性且可靠的, 但在苛刻的半導體制造工藝中進行泵送時, 干泵可能會出現意外故障.
災難性故障
電介質沉積冷凝液和苛刻的工藝氣體 (如NF3) 可能會導致性能下降或突然失效模式, 包括沉積物突然吸入, 排氣堵塞, 導致泵卡住的沉積以及泵部件的腐蝕性退化. 泵故障通常會對 10個甚至 100個在制品晶圓造成不可修復的損壞. 此外, 工具停機和清理可能會導致大量開支和收入損失.
CVD 工藝過程中, 已污染的干泵
上海伯東 Aston™ 質譜分析儀提供解決方案
通過在故障前, 提前更換或使干泵離線, 可以減輕災難性的真空損失, 從而提高生產線產量.
數據驅動干泵故障預測. 通過測量進入 (進氣) 和排出 (排氣) 干泵的氣體的分子類型和合格性 (分壓), 可以模擬破壞性腐蝕或沉積物堆積. 僅氣體壓力和體積僅部分指示氣流的腐蝕性或堵塞性. 至關重要的是流經干泵的氣體成分. Aston™ 質譜分析儀通過對干泵暴露在氣體濃度下的情況進行建模, 并將模型與實際泵故障相關聯, 可以以高置信度預測干泵的預期運行壽命.
在惡劣的 CVD 環境中, Aston™ 利用可操作的數據預測和預防因 PV-CVD 干泵引起的災難性故障, 能夠對破壞性腐蝕或沉積進行預測建模, 優化氮氣吹掃成本.
適用場景: 多個腔室連接到1個干泵, 高濃度的電介質會導致災難性的泵故障 (一次損失 10-100 片的晶圓)
通過使用上海伯東 Atonarp 過程控制質譜儀 Aston™ 可以提高半導體制造工藝的產量, 吞吐量和效率, 此款質譜儀可以在新工藝腔室的組裝過程中進行安裝, 也可將其加裝到已運行的現有腔室, 可在短時間內實現晶圓更高產量!
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