詳細介紹
產品參數
中文名 碳化鉬 化學式 MoC
分子量 107.95 熔點 2692℃
水溶性 不溶于水 密度為9.18g/cm
碳化鉬主要催化反應類型:
1、加氫氫解反應;
2、加氫脫硫HDS和加氫脫氮HDN反應;
3、異構化反應;
4、烴類轉化與合成反應;
5、氨合成中的應用。
陶瓷靶材采用常壓燒結,氣氛燒結,熱等靜壓燒結等工藝,嚴格控制原料的純度,成分及成型坯料額設計尺寸,坯料經過精密機械加工成靶材,可根據客戶要求定制加工特殊摻雜比例靶材。
產品優勢 靶材純度高,致密度高,成分均勻
產品規格 圖片靶材,矩形靶材,圓柱靶材,臺階片靶材,管型靶材,根據客戶的圖紙定制
產品用途 磁控濺射鍍膜材料等
產品附件 正式報價單/購銷合同/裝箱單/材質分析檢測單
適用儀器 各類型號磁控濺射設備
支持合金靶材定制,請提供靶材產品的元素、比例(重量比或原子比)、規格,我們會盡快為您報價!!
價格只做參考,期待您的垂詢!
服務項目:靶材成份比例、規格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款,質量保證,售后無憂!
產品附件:發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/發票/產品為真空包裝
適用儀器:多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備
質量控制:嚴格控制生產工藝,采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段,分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度;可提供質檢報告。
加工流程:熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫
公司介紹
北京京邁研材料科技有限公司坐落于北京通州區創建于2015年,是國內有色金屬行業綜合性研究開發公司。 現有員工100余人。我公司光學鍍膜材料中心以國內*的技術,多年來一直專業從事光學鍍膜材料及濺射靶材的研發與生產。靶材包括各種氧化物、硫化物、氟化物、碲化物、硒化物、硼化物、復合物、金屬及合金等,也可根據您的要求量身定做。
公司現有靶材熱壓爐;真空蒸餾裝置,電解槽,單晶爐,區熔裝置,CVD(化學氣象沉積)裝置,PVD(物理氣象沉積)裝置,移動式加熱裝置等多種高純金屬和化合物生產研發設備;提純工藝包括:真空蒸餾;精餾;區域熔煉;電解;化學氣象沉積;物理氣象沉積;熱擴散;單晶提拉法等。純度從99.9%-99.99999%,公司先后研發的蒸發材料、濺射靶材系列產品,產品涉及工具/裝飾鍍膜、玻璃鍍膜、光學鍍膜、平面顯示/觸摸屏鍍膜、薄膜太陽能鍍膜等多個領域廣泛應用到國內外眾多太陽能、航空航天、生物醫療、*微電子、信息儲存、汽車、船舶、裝飾、工業鍍膜、新能源企業當中。
自有設備:真空熱壓爐,真空中頻感應熔煉爐,冷坩堝懸浮熔煉爐,非自耗真空電弧爐,真空高溫加熱爐,真空燒結爐,真空蒸餾爐,定向凝固,區域熔煉爐,多溫區加熱爐,單晶爐,高溫燒結爐,單溫區,雙溫區、多溫區液相、氣相合成爐、氧化爐、加工設備。
北京京邁研材料科技有限公司幾年來已先后與國內幾十家高校、中科院等研究院所建立了*友好的合作關系,并與這些科研單位有密切的學術交流和技術合作項目,并遠銷歐洲、美國、日本、韓國等,在鍍膜行業擁有良好的聲譽。