產品參數

中文名 碳化鉬                    化學式 MoC

分子量 107.95                    熔點 2692℃

水溶性 不溶于水                 密度為9.18g/cm

碳化鉬主要催化反應類型：

1、加氫氫解反應；

2、加氫脫硫HDS和加氫脫氮HDN反應；

3、異構化反應；

4、烴類轉化與合成反應；

5、氨合成中的應用。

陶瓷靶材采用常壓燒結,氣氛燒結,熱等靜壓燒結等工藝,嚴格控制原料的純度,成分及成型坯料額設計尺寸,坯料經過精密機械加工成靶材,可根據客戶要求定制加工特殊摻雜比例靶材。

產品優勢   靶材純度高,致密度高,成分均勻

產品規格   圖片靶材，矩形靶材，圓柱靶材，臺階片靶材，管型靶材，根據客戶的圖紙定制

產品用途 磁控濺射鍍膜材料等

產品附件 正式報價單/購銷合同/裝箱單/材質分析檢測單

適用儀器 各類型號磁控濺射設備

支持合金靶材定制，請提供靶材產品的元素、比例（重量比或原子比）、規格，我們會盡快為您報價！！

價格只做參考，期待您的垂詢！

服務項目：靶材成份比例、規格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款，質量保證，售后無憂！

產品附件：發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/發票/產品為真空包裝

適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備

質量控制：嚴格控制生產工藝，采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質檢報告。

加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫

公司介紹

北京京邁研材料科技有限公司坐落于北京通州區創建于2015年,是國內有色金屬行業綜合性研究開發公司。 現有員工100余人。我公司光學鍍膜材料中心以國內*的技術，多年來一直專業從事光學鍍膜材料及濺射靶材的研發與生產。靶材包括各種氧化物、硫化物、氟化物、碲化物、硒化物、硼化物、復合物、金屬及合金等，也可根據您的要求量身定做。

公司現有靶材熱壓爐；真空蒸餾裝置，電解槽，單晶爐，區熔裝置，CVD（化學氣象沉積）裝置，PVD（物理氣象沉積）裝置，移動式加熱裝置等多種高純金屬和化合物生產研發設備；提純工藝包括：真空蒸餾；精餾；區域熔煉；電解；化學氣象沉積；物理氣象沉積；熱擴散；單晶提拉法等。純度從99.9%-99.99999%,公司先后研發的蒸發材料、濺射靶材系列產品，產品涉及工具/裝飾鍍膜、玻璃鍍膜、光學鍍膜、平面顯示/觸摸屏鍍膜、薄膜太陽能鍍膜等多個領域廣泛應用到國內外眾多太陽能、航空航天、生物醫療、*微電子、信息儲存、汽車、船舶、裝飾、工業鍍膜、新能源企業當中。

自有設備：真空熱壓爐，真空中頻感應熔煉爐，冷坩堝懸浮熔煉爐，非自耗真空電弧爐，真空高溫加熱爐，真空燒結爐，真空蒸餾爐，定向凝固，區域熔煉爐，多溫區加熱爐，單晶爐，高溫燒結爐，單溫區，雙溫區、多溫區液相、氣相合成爐、氧化爐、加工設備。

北京京邁研材料科技有限公司幾年來已先后與國內幾十家高校、中科院等研究院所建立了*友好的合作關系，并與這些科研單位有密切的學術交流和技術合作項目，并遠銷歐洲、美國、日本、韓國等，在鍍膜行業擁有良好的聲譽。