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北京京邁研材料科技有限公司>>>>MoC500806碳化鉬靶材顆粒MoC靶材磁控濺射靶材

碳化鉬靶材顆粒MoC靶材磁控濺射靶材

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  • 型號 MoC500806
  • 品牌
  • 廠商性質 生產商
  • 所在地 北京市

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更新時間:2021-11-08 16:54:12瀏覽次數:406

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產品簡介

碳化鉬具有較高熔點和硬度、良好熱穩定性和機械穩定性和很好抗腐蝕性等特點。熔點為2692℃。不溶于水和堿液,微溶于硝酸、硫酸。
廠家優勢
*
收貨后7日內可協商退換貨
靶材種類齊全

詳細介紹

產品參數

中文名 碳化鉬                    化學式 MoC

分子量 107.95                    熔點 2692℃

水溶性 不溶于水                 密度為9.18g/cm


碳化鉬主要催化反應類型:

1、加氫氫解反應;

2、加氫脫硫HDS和加氫脫氮HDN反應;

3、異構化反應;

4、烴類轉化與合成反應;

5、氨合成中的應用。

陶瓷靶材采用常壓燒結,氣氛燒結,熱等靜壓燒結等工藝,嚴格控制原料的純度,成分及成型坯料額設計尺寸,坯料經過精密機械加工成靶材,可根據客戶要求定制加工特殊摻雜比例靶材。

產品優勢   靶材純度高,致密度高,成分均勻

產品規格   圖片靶材,矩形靶材,圓柱靶材,臺階片靶材,管型靶材,根據客戶的圖紙定制

產品用途 磁控濺射鍍膜材料等

產品附件 正式報價單/購銷合同/裝箱單/材質分析檢測單

適用儀器 各類型號磁控濺射設備

支持合金靶材定制,請提供靶材產品的元素、比例(重量比或原子比)、規格,我們會盡快為您報價!!

價格只做參考,期待您的垂詢!

服務項目:靶材成份比例、規格、純度均可按需定制。科研單位貨到付款,質量保證,售后無憂!

產品附件:發貨時產品附帶裝箱單/質檢單/發票/產品為真空包裝

適用儀器:多種型號磁控濺射、熱蒸發、電子束蒸發設備

質量控制:嚴格控制生產工藝,采用輝光放電質譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段,分析雜質元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度;可提供質檢報告。

加工流程:熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫

公司介紹

北京京邁研材料科技有限公司坐落于北京通州區創建于2015年,是國內有色金屬行業綜合性研究開發公司。 現有員工100余人。我公司光學鍍膜材料中心以國內*的技術,多年來一直專業從事光學鍍膜材料及濺射靶材的研發與生產。靶材包括各種氧化物、硫化物、氟化物、碲化物、硒化物、硼化物、復合物、金屬及合金等,也可根據您的要求量身定做。

公司現有靶材熱壓爐;真空蒸餾裝置,電解槽,單晶爐,區熔裝置,CVD(化學氣象沉積)裝置,PVD(物理氣象沉積)裝置,移動式加熱裝置等多種高純金屬和化合物生產研發設備;提純工藝包括:真空蒸餾;精餾;區域熔煉;電解;化學氣象沉積;物理氣象沉積;熱擴散;單晶提拉法等。純度從99.9%-99.99999%,公司先后研發的蒸發材料、濺射靶材系列產品,產品涉及工具/裝飾鍍膜、玻璃鍍膜、光學鍍膜、平面顯示/觸摸屏鍍膜、薄膜太陽能鍍膜等多個領域廣泛應用到國內外眾多太陽能、航空航天、生物醫療、*微電子、信息儲存、汽車、船舶、裝飾、工業鍍膜、新能源企業當中。

自有設備:真空熱壓爐,真空中頻感應熔煉爐,冷坩堝懸浮熔煉爐,非自耗真空電弧爐,真空高溫加熱爐,真空燒結爐,真空蒸餾爐,定向凝固,區域熔煉爐,多溫區加熱爐,單晶爐,高溫燒結爐,單溫區,雙溫區、多溫區液相、氣相合成爐、氧化爐、加工設備。

北京京邁研材料科技有限公司幾年來已先后與國內幾十家高校、中科院等研究院所建立了*友好的合作關系,并與這些科研單位有密切的學術交流和技術合作項目,并遠銷歐洲、美國、日本、韓國等,在鍍膜行業擁有良好的聲譽。



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