顯微熔點(diǎn)儀 型號：WRX-4

顯微熔點(diǎn)儀

特點(diǎn)： 
　　　控制單元采用16位微處理芯片，使計算機(jī)速度更快實(shí)時性好。實(shí)現(xiàn)了數(shù)字化溫度控制調(diào)節(jié)，可任意設(shè)定起始溫度，可選擇不同的線性升溫速度。通過數(shù)字濾波技術(shù)增強(qiáng)了抗干擾性。可以自動記錄初熔、終熔溫度。 

主要技術(shù)參數(shù)： 
熔點(diǎn)測量范圍：室溫至320°C 
小讀數(shù)值：0.1°C 
測量重復(fù)性：<200°C時：±1°C 
　　　　　　200°C-300°C時： ±2°C 
線性升溫速度：1, 2, 2.5, 2.8, 3(°C/min) 
顯微鏡：4倍物鏡，10倍物鏡 
儀器重量：4kg 
儀器尺寸：215×170×410(mm)

特點(diǎn)： 
　　　控制單元采用16位微處理芯片，使計算機(jī)速度更快實(shí)時性好。實(shí)現(xiàn)了數(shù)字化溫度控制調(diào)節(jié)，可任意設(shè)定起始溫度，可選擇不同的線性升溫速度。通過數(shù)字濾波技術(shù)增強(qiáng)了抗干擾性。可以自動記錄初熔、終熔溫度。 

主要技術(shù)參數(shù)： 
熔點(diǎn)測量范圍：室溫至320°C 
小讀數(shù)值：0.1°C 
測量重復(fù)性：<200°C時：±1°C 
　　　　　　200°C-300°C時： ±2°C 
線性升溫速度：1, 2, 2.5, 2.8, 3(°C/min) 
顯微鏡：4倍物鏡，10倍物鏡 
儀器重量：4kg 
儀器尺寸：215×170×410(mm)

夫蘭克—赫茲實(shí)驗(yàn)儀 型號：FH-Ⅱ
 FH-Ⅱ夫蘭克—赫茲實(shí)驗(yàn)儀采用通過電子與原子相碰撞進(jìn)行能量交換的方法，直接觀測原子內(nèi)部能量躍變時某一定值。從而證明了原子能級的存在及玻耳理論的正確性。
儀器采用三塊3 1/2數(shù)顯表，分組同步顯示VG1K、VG2K、VH；微電流IA、VG2K數(shù)值，使實(shí)驗(yàn)操作簡便、直觀。可用自動和手動兩種點(diǎn)測方法繪制譜峰曲線，在示波器上可清晰地觀測到爬坡曲線及6個以上的譜峰數(shù)。

FH-Ⅱ夫蘭克—赫茲實(shí)驗(yàn)儀技術(shù)指標(biāo)：
1、VG1K 0～5V VG2A 1.2～15V
VH 1.2～6.3V VG2K 0～100V
2、掃描輸出電壓幅度：＞1V
3、微電流測量范圍：×10-6（1uV）～×10-9（1nA）4檔

 反滲透實(shí)驗(yàn)裝置 型號：TH-FST

實(shí)驗(yàn)?zāi)康模?nbsp;
1、加深對組成反滲透工藝流程各個處理單元構(gòu)造的了解； 
2、掌握反滲透工藝流程各單元操作方法及沖洗方法； 
3、熟悉各單元的作用，了解其水質(zhì)變化及設(shè)計參數(shù)。 
主要配置： 
濃水箱、洗水池、濾液池、高壓泵，反滲透卷式組件、納濾組件、壓力表、液體流量計、管路、閥門、控制屏、不銹鋼框架。 
技術(shù)參數(shù)： 
1、反滲透膜為卷式膜，膜直徑：φ99.4mm；長度：1014mm；脫鹽率：95%；帶有不銹鋼膜殼，大壓力：4.16Mpa；使用溫度：450C。 
2、高壓泵采用QL-280型高壓清洗機(jī)，功率：1.3Kw；高壓力：8 Mpa；工作壓力：1-6 Mpa（可調(diào)節(jié)）；理論流量：<9.83L/min。 
3、反滲透流量計采用LZB-10（16-160）L/H、濾膜流量計采用LZB-10（10-100）L/h。 
4、洗水池、濾液池均由不銹鋼制成 
5、各項(xiàng)電路指示、操作均在控制屏面板進(jìn)行。 
6、框架為不銹鋼，結(jié)構(gòu)緊湊，外形美觀，流程簡單，操作方便。 
7、外形尺寸：1200×500×1700mm。