半導體產業不僅是一個嚴重依賴水資源的產業，也是一個高耗水量的產業。特別是在水資源有限的情況下，水資源的限制和缺水給半導體生產企業的經營帶來了巨大的壓力。因此，半導體生產企業節水研究與實踐將有助于提高用水效率，降低用水成本。目前，節水、中水回用和廢水回用已成為半導體制造商應對缺水危機的重要措施。特別是廢水回用不僅可以減少對水資源的需求，而且可以降低生產成本，還可以減少對環境的污染。

　　半導體工業廢水主要包括兩部分：

　　1、硅片切割研磨廢水和半導體器件封裝外殼電鍍廢水。指半導體集成電路器件封裝外殼電鍍廢水和半導體分立器件封裝外殼電鍍廢水，即，將具有導電防腐作用的金屬層分層電鍍在包裝外殼的金屬部件上時產生的廢水，其中污染物主要為酸堿、錫、鉛、鎳等銅金屬離子、有機化合物和有機絡合物。

　　2、硅片切割和研磨產生的廢水是硅片切割和研磨過程中產生的，其中含有大量的亞微米硅顆粒、幾十納米以下的金剛砂磨粒和清洗劑。

　　鋼鐵廢水處理難度大且成分復雜，要想達到近*是十分不易的。反滲透是一種以壓力為推動力的膜分離過程。用水泵給含鹽水溶液或廢水施加壓力，以克服自然滲透壓及膜的阻力，使水透過反滲透膜，將水中溶解鹽和污染雜質阻止在反滲透膜的另一側,應用反滲透技術對鋼化廢水進行深度處理。

　　Neterfo極限分離系統是一種特殊的反滲透系統，可實現廢水資源回收利用，減少環境污染。核心技術為HRLE極限分離技術、Wastout微波多效過濾技術，對廢水進行深度處理，同時實現了水資源合理的循環利用。

　　Neterfo極限分離系統整個處理過程未添加任何化學藥劑，濃縮后的污泥無毒、無害，易處理。且處理系統流程短、占地小、能耗低，易于實現自動化控制，系統運行更可靠，運行費用較低，真正實現污水、廢水資源化，增加可利用的水資源，有利于實現廢水無害化，防治水污染。