產品參數：

可處理襯底尺寸：直徑大為8英寸的晶圓片，或大為6英寸 x 6英寸的襯底；

旋轉速度：達9,000 rpm（以1 rpm步長可調）；

固定晶圓片或襯底的裝置：真空托盤；

處理時間：（1-999秒，可在1秒內調整）；

加速度：1-5,000rmp/sec；

其他參數：20個程序段，每個40步

設備尺寸：約 480mmx 360mm x 416mm(不帶蓋子)

選配件：

適用各種尺寸大小的托盤

分配臂

泵

主營產品：

Laurell勻膠機     

Harrick等離子清洗機

Thetametrisis膜厚儀  

Microxact探針臺

ALD原子層沉積系統

TRION反應離子刻蝕機

Uvitron紫外固化箱

NXQ紫外曝光光刻機       

Novascan紫外臭氧清洗機

Nilt納米壓印機

Wenesco/EMS/Unitemp/NDA加熱板

Annealsys高溫退火爐

Kinematic程序剪切儀

Laurell EDC系統，濕站系統     

Wabash/Carver自動壓片機

控制器尺寸：約 145mmx 100mm x 120mm