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褚冰
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解析UV紫外線除臭原理-光催化氧化

2017-1-7  閱讀(469)

解析UV紫外線除臭原理-光催化氧化

惡臭 的來源有以下幾個方面:工業惡臭、農牧業惡臭、城市公共設施惡臭、燃料燃燒惡臭、餐飲 油煙惡臭、機動車廢氣惡臭、惡臭化學物質。

UV光解除臭也叫光催化除臭,其原理主要是紫外線照射*,產生自由基將臭味分子分解,納米級銳鈦型*(TiO2),作為一種新的光催化半導體材料,日本已將其列為本世紀重點發展的新技術,被譽為當今世界上*的空氣凈化新技術近年來在中國也得到較廣泛應用。    

在室溫下,當波長在253.7nm 以下的光量子照射到納米級*顆粒上時,在價帶的電子被光量子所激發,躍遷到導帶形成自由電子,而在價帶形成一個帶正電的空穴,這樣就形成電子-空穴對。利用所產生的空穴的氧化及自由電子的還原能力,*和表面接觸 的H2O,O2發生反應,產生氧化力*的自由基,這些自由基可分解 幾乎所有有機物質,將其所含的氫(H)和碳(C)變成水和二氧化碳。 

   泡沫鎳既有金屬鎳耐高溫、抗腐蝕、化學性質穩定的特征,又具有泡 沫*的三維網狀結構,以它為基體,附載納米*開發而成的 復合光催化抗菌泡沫金屬濾網繼承了泡沫鎳的所有優點,超過95%的孔隙率保證了良好的空氣通透性,而在其包面分布均勻的光觸媒材料比表面積大,表面覆蓋率高,zui大限度增大了與空氣和紫外線的接觸面,加之泡沫金屬的三維特性,使得光催化‘反應腔’飽滿,保證了其光催化效率,從而提升了UV光解除臭效率。

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