半導(dǎo)體晶片，芯片清洗用超純水設(shè)備，電子工業(yè)超純水設(shè)備，電子芯片清洗用超純水設(shè)備，電子半導(dǎo)體晶片用超純水設(shè)備，電子行業(yè)超純水設(shè)備，半導(dǎo)體超純水設(shè)備， 純水設(shè)備反滲透設(shè)備，反滲透純凈水設(shè)備、反滲透水處理設(shè)備、純水設(shè)備，高純水設(shè)備、超純水設(shè)備、純水工程、純凈水設(shè)備、上海純水設(shè)備、水處理設(shè)備、反滲透純水設(shè)備、高純水制取設(shè)備，電滲析設(shè)備，

 應(yīng)用領(lǐng)域：

·半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路；
·超純材料和超純化學(xué)試劑；
·實(shí)驗(yàn)室和中試車間
·汽車、家電表面拋光處理；
·其他高科技精微產(chǎn)品。

工藝流程：

1、預(yù)處理－反滲透－水箱－陽床－陰床－混合床－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－精制混床－精密過濾器－用水對象

2、預(yù)處理－一級反滲透－加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）－中間水箱－第二級反滲透（正電荷反滲膜）－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象

3、預(yù)處理－二級反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象

4、預(yù)處理－二級反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－精制混床－0.2或0.5μm精密過濾器－用水對象（工藝）

水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)：

（符合美國ASTM標(biāo)準(zhǔn)，電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級）

產(chǎn)品圖片：