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硅片清洗設備（非標設備）
- 公司名稱：
- 更新時間：
- 所 在 地：
- 生產地址：
- 瀏覽次數：
- 蘇州華林科納半導體設備技術有限公司
- 2017-08-20 02:02:27
- 蘇州市
- 蘇州園區獨墅湖高教區若水路398號
- 450
【簡單介紹】
【詳細說明】
用途：廣泛用于IC生產及半導體元器件生產中晶片的濕法化學工藝；
? 效用：本設備可有效去除晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質、自然氧化層及石英、塑料等附件器皿的污染物，且不破壞晶片表面特性；
? 功能槽包括：加熱酸缸、HF腐蝕、BHF（HF恒溫緩沖腐蝕）、超聲清洗槽、恒溫水浴、QDR（快排沖水）、電爐等。
? 全自動硅片清洗設備特點： 進口伺服驅動機構及機械手臂，清洗過程中無需人工操作。通過PLC實現控制，全部操作通過觸摸屏界面一次完成。 可預先設制多條清洗工藝，可同時運行多條工藝。 自動化程度高，適用于批量生產，確保清洗質量的*性。自動氮氣鼓泡裝置可有效提高產品質量，縮短清洗時間。 可選裝層流凈化系統及自動配酸裝置。
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