產品展示
硅片蝕刻設備
【簡單介紹】
【詳細說明】
設備名稱 | 硅片蝕刻設備 | 用于半導體工藝中對硅片蝕刻。 | |
規格尺寸 | 長 3000mm | 寬 1800mm | 高 1780mm |
主要材質 | 殼體:德國進口PP板, 槽體:NPP板 | ||
產品特點 | 1.超聲清洗,加熱清洗為單槽定時控制,到時給予結束提示音。 2.工藝過程:上料→支離子水超聲清洗→去離子水加熱清洗→去離子水沖洗→下料。結構特點:本設備為柜體式,操作面帶有透明門窗。 3設備超聲,加熱清洗時間由定時器控制。加熱槽裝有溫控表(pompon)和傳感器。 4.每個清洗槽互不影響,超聲、沖洗清洗槽的上給水(沖洗清洗槽配有熱水)、下排水為手動方式。 5.配有可調節式的排風裝置。 | ||
備 注 | 1.電控部分采用密封保護方式配有緊急停機及報警裝置。 |
相關產品
產品搜索
請輸入產品關鍵字:
聯系方式