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位移激光干涉儀ZLM800

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品       牌

廠商性質經銷商

所  在  地上海市

更新時間：2015-11-17 20:20:19瀏覽次數：360次

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由德國JENAer公司生產的多軸路同步測量激光干涉儀ZLM800，主要用于微位移部件的測量，角度變化量的監測，運動平臺變化量的檢測，及光刻機幾何量的測量，數控機床幾何量的測量等。

產品功能
    ZLM800多軸路同步測量激光干涉儀——真正的雙頻激光干涉儀，主要用于各種平臺和部件的微位測量、各種擺鏡角度變化量的監測、運動平臺位移量和角度變化的檢測、光刻機幾何量的測量、數控機床幾何量的測量等，zui多可實現六軸聯動。也可通過位移+偏擺+俯仰的三角關系檢測物體的振動變化。
    1.納米級的多軸聯動位移、速度、加速度的動靜態測量分析及運動控制環同步測量校準；
    2.同步實時測量多軸聯動驅動部件的俯仰、扭擺、滾動的角位移變化, X-Y-Z 軸的聯動插補位移誤差及驅動匹配誤差分析；
    3.納米級振動的多軸向同步數據采集測量和分析。


性能優勢 技術參數

型號：ZLM800
使用高性能PCI或機架式數據處理器
He-Ne激光平均波長：
632.8 nm
激光穩頻精度：
一小時2x10-9（±0.002ppm）
壽命內2x10-8（±0.02ppm）
系統精度（0-40℃時）：
±0.4ppm
光束直徑：
6mm （可選3.2mm）
激光管突發zui大輸出功率：
5mW （激光等級2）
每束光可測量的軸數：
zui多6個
線性測量距離：
2m
角度測量范圍：
± 10°
zui大速度：
2m/s
zui大加速：
無限制
zui高采樣頻率：
內部1MHz，外部40MHz
預熱時間：
10分鐘
位移測量分辨率：
1.25nm
位移測量精度：
±0.4ppm （μ/m）
角度測量分辨率：
0.003μrad
角度測量精度：
±0.1ppm實測值
數據接口：
積分信號
32 Bit （實時時間）
數據延時< 20 ns
數據分析標準：
ISO230/VDI3441/VDI2617/NMTBA
工作環境：
溫度：15°C-30°C
濕度：<90%無冷凝
儲存環境：
溫度：10°C-40°C
濕度：<95%無冷凝

應用案例

l          系統采用雙頻激光發射器及多軸路干涉信號同步數據處理器，是真正意義上的雙頻激光干涉儀，頻差為640MHz。請用戶注意“激光干涉儀”和“雙頻激光干涉儀”概念的區別，*雙頻激光干涉儀精度更好、性能更穩定。世界范圍內只有兩家雙頻激光干涉儀的生產商，德國耶拿爾公司是其中的一家。
l          全部部件皆在德國生產制造，絕非為了降低成本而在第三方國家進行部件加工。光學組件全部采用蔡司光學鏡，是世界上*一家將*的蔡司光學鏡用于激光干涉儀領域的產品制造商。
l           激光器壽命更長，可達20000小時，激光穩頻精度高，一小時內為±0.002ppm，在產品壽命內可達±0.02ppm。
l          干涉鏡采用差分干涉原理，系統精度更高，可達±0.4ppm。
l          基于可朔源的激光波長為位移量度量基準，應用雙頻激光外差式干涉原理及交流光電信號處理器，克服了單頻激光干涉測量的直流電平漂移及受環境因素光強變化約束的弊端，具有*的增益、高信噪比和抗電磁干擾性能，實現了可朔源的多光路外差式激光干涉測量。
l          采樣頻率更快，zui高達1MHz，可在0.001Hz-1MHz之間進行選擇。
l          被測物體zui大速度16m/s（可選）；采用高精度AE950 PCI數據處理器，分辨率達0.6nm（當移動速度為1m/s時，線性分辨率更可高達為0.1nm）。
l          無加速度限制；當光線微弱時，性能也十分穩定。
l          信號延時<200ns；對電磁干擾不敏感。
l          對于多軸聯動復雜光路的角度和微位移的測量，ZLM800型是理想的選擇。


 

以下是為*某項目設計的ZLM800雙頻激光干涉儀兩個應用案例。在*個案例中，用兩個3軸角度干涉儀分別監視兩個擺鏡的擺動，實時測試兩個擺鏡對應量（俯仰、偏擺和位移）的差異情況。在第二個案例中，用一個3軸角度干涉儀來測試擺鏡的鏡面擺動情況，2個單軸位移干涉儀檢測一個兩軸位移平臺的運動情況。


 
 
下述案例是為國內某研究所某項目設計的ZLM800測量系統。用戶預先把被測物體放置在密閉箱中，密閉箱留有觀察窗口。所需要測量的數據是被監視目標Ⅰ、被監視目標Ⅱ的X、Y向的角度變化量，以及這兩個目標在Z方向的相對變化量。


ZLM800部分光路圖示例


從X、Y和Z方向同時測量位移變化，其中X和Y在一個水平層面上

從X、Y和Z方向同時測量位移變化，其中X和Y不在一個水平層面上

在水平方向同時測量位移、偏擺和俯仰角度變化（上圖）
 
在垂直方向同時測量位移、偏擺和俯仰角度變化（上圖）
 
 
同時從X和Y方向測量位移和偏擺變化（上圖）
 
同時從X和Y方向測量運動平臺兩個層面的位移變化（上圖）
 
同時從X和Y方向測量位移、偏擺和俯仰的角度的變化（1）
 
同時從X和Y方向測量位移、偏擺和俯仰的變化（2）
 
同時從X和Y方向測量位移、偏擺和俯仰的變化（3）
 
機床行業對線性編碼器和旋轉編碼器的動態同步進行標定（三個軸路）
 
光刻機應用布置圖，測量位移和角度變化


資料下載
復雜光路測量的應用.pdf
系統應用簡介.pdf

 

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