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JBX-3200MV 電子束光刻系統(tǒng)

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產(chǎn)品型號

品       牌

廠商性質其他

所  在  地廣州市

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更新時間:2024-12-01 10:15:27瀏覽次數(shù):24次

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產(chǎn)品簡介

JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm節(jié)點的掩模版/中間掩模版(mask/reticle)的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。 的技術實現(xiàn)了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進重復式的光刻系統(tǒng)?

詳細介紹

JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm節(jié)點的掩模版/中間掩模版(mask/reticle)的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。

的技術實現(xiàn)了高速、高精度和高可靠性。是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進重復式的光刻系統(tǒng)

利用步進重復式曝光的優(yōu)點,結合曝光劑量調整功能及重疊曝光等功能,能支持下一代掩模版/中間掩模版(mask/reticle)圖形制作所需要的多種補償。

拼接精度≦±3.5 nm
套刻精度≦±5 nm

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