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JBX-3200MV　電子束光刻系統

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更新時間：2024-12-01 10:15:27瀏覽次數：12次

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產品簡介

JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm節點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統。 的技術實現了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進重復式的光刻系統?

詳細介紹

JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm節點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統。

的技術實現了高速、高精度和高可靠性。是基于加速電壓50 kV的可變矩形電子束和步進重復式的光刻系統

利用步進重復式曝光的優點，結合曝光劑量調整功能及重疊曝光等功能，能支持下一代掩模版/中間掩模版（mask/reticle）圖形制作所需要的多種補償。

拼接精度≦±3.5 nm
套刻精度≦±5 nm

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