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JBX-9500FS 電子束光刻系統

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更新時間:2024-12-01 10:11:30瀏覽次數:29次

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產品簡介

JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統,兼具高水平的產出量和定位精度,能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版,適合納米壓印、光子器件、通信設備等多個領域的研發及生產。

詳細介紹

JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統,兼具高水平的產出量和定位精度,能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版,適合納米壓印、光子器件、通信設備等多個領域的研發及生產。

此外,由于具有100MHz的掃描速度,場尺寸在1000µm×1000µm時的套刻精度達到±11nm、場拼接精度為±10nm、寫場內位置精度達±9nm,是兼具高水準產出率和位置精度的100kV圓形束光刻系統。

由于采用的位置偏轉DAC為20位,掃描DAC為14位,能獲得0.25nm的掃描步距,分辨率更高,描畫數據增長1nm,可以更忠實地再現描畫數據。

達到100MHz的高速化掃描速度,保證了大電流描畫時的掃描步距很短,因而能提高對精度要求的圖形描畫的產出量。

由激光束控制(LBC)的0.15nm(λ/4096)的最小定位單位及高分辨率,達到了高水準的位置精度。

本公司獨自的自動校正功能(自動補償功能),實現了可信賴的長時間穩定地描畫。自動補償可以根據時間(任意的)、場和圖形進行分別設定,非常適合于周末及休假等無人值守等情況下的長時間描畫。

該系統能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的光掩模版,適合于納米壓印、光子器件、通信設備等各種領域的研發及生產。采用材料卡匣傳送系統(選配),最多可裝載10個卡匣。

利用微間距控制程序(場尺寸微調程序)可以制作DFB激光器等的啁啾光柵。

電子槍ZrO/W 肖特基型
描畫方式圓形束, 矢量掃描, 步進重復式
加速電壓100kV
樣品尺寸 樣品尺寸 (可以安裝): 300mmΦ的晶圓片, 6英寸的掩模版, 任意尺寸的的微小樣品。
場尺寸1000µm×1000µm
樣品臺移動范圍260mmX240mm
樣品臺控制單元0.15nm(λ/4096)
套刻精度≦±11nm
場拼接精度≦±10nm (場尺寸為1000µm×1000µm)
寫場內位置精度≦±9nm(場尺寸為1000µm×1000µm)
定位DAC20位
掃描速度 100MHz

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