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廣州文明機電有限公司
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更新時間：2024-12-01 09:46:39瀏覽次數(shù)：19次
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該Linseis L75/HP 高壓熱膨脹儀大大拓展了熱分析的應(yīng)用范圍。該系統(tǒng)可以在溫度從室溫到1100/1400/1800 ℃，并在該壓力達到100/150 bar的環(huán)境中測量的材料的膨脹（長度的改變）。可選用水蒸氣發(fā)生裝置和多氣體控制系統(tǒng)。
為了測量數(shù)據(jù)和拓寬測量范圍，可以使用QMS和FTIR對逸出的氣體進行分析。耦合后的功能超過單獨部件的總和。用戶通過LINSEIS耦合技術(shù)和綜合硬件和軟件，采用不同數(shù)據(jù)庫對數(shù)據(jù)進行分析以得到良好的結(jié)果。
| 型號 | DIL L75 HP / 1 | DIL L75 HP/2 |
| 溫度范圍* | RT -- 1100°C | RT -- 1400/1800°C |
| 壓力 | 150 bar | 100 bar |
| 真空 | 10E-4 mbar | 10E-4 mbar |
| 樣品支架 | 熔融石英 < 1100°C | 熔融石英 < 1100°C |
| Al2O3 < 1750°C | Al2O3 < 1750°C | |
| 樣品長度 | 50 mm | 50 mm |
| 樣品直徑 | 7/12/20 mm | 7/12/20 mm |
| 可調(diào)樣品壓力 | 1000 mN | 1000 mN |
| 測量范圍 | 500 / 5000 µm | 500 / 5000 µm |
| 分辨率 | 0.125 nm | 0.125 nm |
| 可選裝置 | 壓力可控混氣系統(tǒng) (MFC′s) | 壓力可控混氣系統(tǒng) (MFC′s) |
| 氣氛 | 惰性, 氧化性**, 還原性, 真空 | 惰性, 氧化性**, 還原性, 真空 |
* 取決于不同爐體
** 不適用于石墨加熱爐
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