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小型離子濺射儀鍍膜儀

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品       牌

廠商性質(zhì)其他

所  在  地鄭州市

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更新時(shí)間:2025-01-07 16:30:14瀏覽次數(shù):19次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

小型離子濺射儀鍍膜儀一種有著緊湊結(jié)構(gòu)的桌上型鍍膜系統(tǒng),對(duì)于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時(shí),交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對(duì)試樣表面進(jìn)行清潔,之后試樣復(fù)原,再進(jìn)行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料,有時(shí)電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料,氧氣為離子濺射儀常用的反應(yīng)氣體。

詳細(xì)介紹

小型離子濺射儀鍍膜儀  

離子濺射儀在掃描電鏡中應(yīng)用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導(dǎo)電樣品的荷電現(xiàn)象,并提高觀測(cè)效率,另外可以使用噴碳附件對(duì)樣品進(jìn)行蒸碳,實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

在磁控濺射中,由于運(yùn)動(dòng)電子在磁場(chǎng)中受到洛侖茲力,它們的運(yùn)動(dòng)軌跡會(huì)發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)
生螺旋運(yùn)動(dòng),其運(yùn)動(dòng)路徑變長(zhǎng),因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù),使等離子體密度增大,從而磁控濺射速率得到很大的提高,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作。同時(shí),經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽(yáng)極時(shí),已變成低能電子,從而不會(huì)使基片過熱。

銀靶材離子濺射儀KT-Z1650PVD鍍膜客戶反饋圖:

637850126424153843761.jpg

小型離子濺射儀鍍膜儀KT-Z1650PVD廠家供應(yīng)技術(shù)參數(shù);

控制方式

7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺(tái)

可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速

8轉(zhuǎn)/分鐘

樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

40-105mm

真空測(cè)量

皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預(yù)留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進(jìn)氣口



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