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半自動發射譜報價

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產品簡介

發射譜XES是一種重要的分析技術,主要用于研究材料的電子結構和化學性質。硬X射線具有較高的能量,能夠深入樣品內部,使XES成為探測材料深層信息的強有力工具。

詳細介紹

Rapid 發射譜XES儀器資料

Rapid XES硬X射線發射譜(X-ray Emission Spectroscopy,XES)是一種重要的分析技術,主要用于研究材料的電子結構和化學性質。硬X射線具有較高的能量,能夠深入樣品內部,使XES成為探測材料深層信息的強有力工具。XES的主要應用領域包括:

1.化學狀態分析:XES能夠提供關于樣品中元素化學狀態的直接信息,如氧化態和配位環境,這對于理解材料的化學性質和反應機制至關重要。

2.材料科學:在新材料的開發和研究中,XES被用來分析材料的電子結構、能帶結構和價帶信息,這些信息對于優化材料的電學和光學性能非常重要。

3.催化劑研究:XES技術能夠在原子級別上探測催化劑的活性位點及其電子環境,為設計更高效的催化劑提供了可能。

4.環境科學:通過分析環境樣品(如土壤、水體和大氣顆粒)中污染物的化學狀態,XES有助于理解污染物的來源、遷移和轉化過程。

5.能源材料研究:在研究電池、燃料電池和太陽能材料的電子結構和工作機制時,XES提供了關鍵的電子層面信息,對優化這些能源轉換和存儲設備的性能具有重要意義。

6.生物醫學領域:XES用于研究生物分子(如蛋白質和酶)中金屬離子的配位環境,這對于理解生物分子的功能和設計藥物具有重要作用。

7.地球科學:在地球和行星科學研究中,XES可以分析礦物和巖石樣本,揭示其成分和形成過程中的環境條件。

硬X射線發射譜(XES)技術因其提供的元素和化學狀態信息,在科學研究和工業應用中發揮著越來越重要的作用,特別是在無法直接使用其他技術探測樣品深層或微量元素的情況下。隨著測量技術的進步,XES預計將在未來在更多領域中找到應用。

儀器原理:

XES


儀器外觀:

微信圖片_20240320213526

發射譜XES儀器參數:

1.探測能量范圍:5~15 keV;

2.可測3d元素K邊、5d過渡金屬L邊、以及錒系元素L邊熒光峰;

3.電子空穴效率:≥1×1011;

4.能量分辨率:≤1.5 eV Cu Ka;

5.檢測限:≤0.1%wt;

6.重復性:重復掃描能量偏移<50mev;<>

7.氦氣腔體,減少X射線空氣吸收;

8.高純度Si或者Ge晶體單色器,保證全能區能量分辨率;

9.配置原位池系統,可以設計各種模塊化的原位測試系統,高溫低溫、多相催化、電催化等各種原位測試系統集成,可實現模塊化切換;

10.包含數據處理系統,采集過程中發射譜數據自動輸出,無需額外切換。

參考數據:

Mn

Co Foil Kα

CoKalfa1CoO Co Kbeta

LabkbetasourceFlux



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