將水中的離子幾乎去除,又將水中的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備,專業單晶硅爐用超純水設備取代了傳統的離子交換技術,生產出穩定的去離子水是佳水處理技術。
單晶硅爐用超純水設備的具體參數如下:
超純水處理:既將水中的導電介質幾乎去除,又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水。電阻率大于18MΩ*cm,或接近18.3MΩ*cm極限值(25℃)。超純水處理,是一般工藝很難達到的程度,采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理四大步驟,多級過濾、高性能離子交換單元、超濾過濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法,電阻率方可達18.25MΩ*cm(25℃)。
工業超純水處理:RO+CEDI+SMB
設備處力:按客戶要求設計
出水指標:≥16-18.2MΩ.CM
產水用途:電子、等行業用工業超純水
反滲透+EDI
設備處力:按客戶要求設計
出水指標:≥16-.18.2MΩ.CM
產水用途:電子、單晶硅/多晶硅用工業超純水、純水工業
超純水處理:RO+CEDI+SMB
設備處力:按客戶要求設計
出水指標:≥16-18.2MΩ.CM
產水用途:電子、等行業用工業超純水
反滲透(膜分離法)超純水分離技術:反滲透是用足夠的壓力使溶液中的溶劑(一般指水)通過反滲透膜(一種半透膜)而分離出來,方向與滲透方向相反,可使用大于滲透壓的反滲透法進行分離、提純和濃縮溶液。反滲透膜的主要分離對象是溶液中的離子范圍
反滲透分離過程有如下優點:①不需加熱,沒有相變②能耗少,過程連續穩定③設備體積小、操作簡單、適應性強④對環境不產生污染
反滲透純水系統根據不同的源水水質采用不同的工藝,一般自來水經一級反滲透處理后,產水電導率<10~20us/cm,經二級反滲透處理后<5us/cm,甚至更低,在反滲透系統后輔以離子交換設備或EDI設備可以制備超純水,使電阻率高達18.2兆歐姆.厘米。
單晶硅爐用超純水設備相關應用:
1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。
2、化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等用純水。
3、單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件 、電容器潔凈產品及各種元器件等生產工藝用純水。