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浚和（上海）儀器科技有限公司
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高頻等離子表面處理裝置■操作性·功能●射頻13.56Mhz0-500W高功率機型，發生器自動匹配，無需調節反射波，進一步增加的操作的便捷性
高頻等離子表面處理裝置 型號 PDC510 方式 RIE模式/DP模式 性能 發生器功率： 0-500W 發生器頻率： 射頻RF13.56Mhz 發生器匹配方式： 自動匹配（Auto matching） 構成 腔體材質： 一體成型鋁制腔體 腔體內尺寸： W500×D300×H200mm 電極尺寸： W400×D200 反應氣體： 二路工藝氣體，可支持氧氣、氬氣、氮氣等非腐蝕性氣體 控制顯示方式： 液晶觸摸屏、全自動控制 真空度顯示： 數字式皮拉尼傳感器，實時顯示腔體內真空度。 反應氣體流量控制： MFC 質量流量計 門： 鉸鏈門帶觀察窗 外形尺寸： W700×D700×H1285mm 真空泵： 干式真空泵 NEODRY 36E（油泵可選） 真空泵抽速： 36m3/h 電源規格： 三相200V 8A 重量： 約180kg
■操作性·功能
●射頻13.56Mhz 0-500W高功率機型，發生器自動匹配，無需調節反射波，進一步增加的操作的便捷性。
●標準配備數字式皮拉尼傳感器，實時顯示真空度，使得控制更為精確。
●一體成型鋁制腔體，腔體材質結實可靠而且無需擔憂因為腔體材質的原因導致樣品受到污染。
■安全性·保護
●標準裝備自我診斷功能，可實時監測和了解機器的運轉狀態。
●裝載有過電流漏電保護開關、自診斷回路、異常時蜂鳴器報警等安全功能。
■產品優勢
●DP和RIE模式標準配備即可利用等離子的化學性質又可以有效利用
其物理性質，工藝應用范圍更加廣泛。。
●原則上所有材質的樣品都可以進行清洗，對清洗樣品材質沒有要求。
●液晶觸摸屏控制，操作簡單方便。
●標準配備產生等離子均勻性很好的平行平板電極。
●標準裝備多種安全功能，安全措施綿密。
■用途
●CSPBGACOB基板等離子清洗
●去除有機膜和金屬氧化膜
●印刷電路基板的干式清洗
●材料表面活化處理
●LDE封裝
■構成圖
■技術規格
●CSPBGACOB基板等離子清洗
●去除有機膜和金屬氧化膜
●印刷電路基板的干式清洗
●材料表面活化處理
●LDE封裝
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