Intel宣布世界最先進光刻機投產(chǎn)！晶圓生產(chǎn)效率/可靠性翻倍

2025-02-27 16:09:43快科技閱讀量：15926      我要評論

　　2月25日消息，Intel宣布，ASML首批兩臺高數(shù)值孔徑（High-NA EUV）極紫光刻機已經(jīng)在其工廠投入生產(chǎn)。初步數(shù)據(jù)顯示，其效率、可靠性比上一代EUV光刻機都有明顯提升。

　　Intel資深首席工程師Steve Carson表示，Intel利用先進光刻機已在一季內(nèi)生產(chǎn)3萬片晶圓，這些晶圓可以產(chǎn)出數(shù)千顆計算芯片。

　　這兩臺光刻機是目前世界上最先進的光刻機，能夠比之前的阿斯麥光刻機生產(chǎn)出更小、更快的計算芯片。

　　去年，Intel成為了全球首家接收這些光刻機的芯片制造商。此舉是Intel的戰(zhàn)略轉(zhuǎn)變，該公司在采用上一代極紫外 (EUV) 光刻機方面落后于競爭對手。

　　Intel花了七年時間才將之前的機器全面投入生產(chǎn)，導(dǎo)致其領(lǐng)先優(yōu)勢被臺積電超越。在生產(chǎn)初期，Intel曾因先前那些EUV機型的可靠性問題而遇到挫折。

　　不過Carson表示，ASML的高數(shù)值孔徑（High-NA EUV）極紫光刻機在初步測試中的可靠性大約是前一代機器的兩倍，“我們能以一致速度生產(chǎn)晶圓，這對平臺是一大幫助”。

　　同時，新的光刻機能以更少曝光次數(shù)完成與早期設(shè)備相同的工作，從而節(jié)省時間和成本。 Carson指出，Intel工廠的早期結(jié)果顯示，高數(shù)值孔徑（High-NA EUV）極紫光刻機只需要一次曝光和個位數(shù)的處理步驟，即可完成早期機器需要三次曝光和約40個處理步驟的工作。

　　去年2月份，ASML首次在其荷蘭總部向媒體公開展示了最新一代的High NA EUV光刻機。

　　據(jù)悉，一套High NA EUV光刻機的大小等同于一臺雙層巴士，重量更高達150噸，組裝起來比卡車還大，需要被分裝在250個單獨的板條箱中進行運輸。

　　裝機時間預(yù)計需要250名工程人員、歷時6個月才能安裝完成。

　　根據(jù)爆料顯示，High NA EUV的售價高達3.5億歐元一臺，約合人民幣27億元，它將成為全球三大晶圓制造廠實現(xiàn)2nm以下先進制程大規(guī)模量產(chǎn)的必備武器。

　　2023年12月，Intel率先拿下了全球首臺High NA EUV光刻機，臺積電和三星訂購High NA EUV預(yù)計最快2026年到貨。

　　公開資料顯示，NA數(shù)值孔徑是光刻機光學系統(tǒng)的重要指標，直接決定了光刻的實際分辨率，以及最高能達到的工藝節(jié)點。

　　一般來說，金屬間距縮小到30nm以下之后，也就是對應(yīng)的工藝節(jié)點超越5nm，低數(shù)值孔徑光刻機的分辨率就不夠了，只能使用EUV雙重曝光或曝光成形(pattern shaping)技術(shù)來輔助。

　　這樣不但會大大增加成本，還會降低良品率。因此，更高數(shù)值孔徑成為必需。

　　Intel表示，計劃使用High NA EUV光刻機來協(xié)助開發(fā)其18A制程，該技術(shù)預(yù)計今年稍晚時隨著新一代PC芯片進入量產(chǎn)。

　　此外，Intel計劃在下一代14A制程中全面導(dǎo)入這款設(shè)備，但尚未公布該技術(shù)量產(chǎn)時間。

　　原標題：世界最先進！ASML High-NA EUV光刻機已在Intel投入生產(chǎn)：晶圓生產(chǎn)效率、可靠性翻倍

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