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CMSD2000系列研磨分散(膠體磨)設備特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。我們將高剪切均質分散機進行改裝,我們將三變跟為一,然后在均質頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過均質將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)
CMSD膠體磨設備選型表:
膠體磨 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | |
CMSD 2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD 2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD 2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到大允許量的10%。 |
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